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光學清洗設備
超聲波清洗機?
外觀:密閉槽體+控制面板,用于精密去除鏡片、透鏡表面污漬。
應用:實驗室、醫療器械、光學元件制造。

激光清洗設備?
外觀:集成激光頭與精密運動平臺,無接觸清除涂層或污染物。
應用:航天器件、半導體晶圓清潔。

等離子清洗機?
外觀:真空腔體+氣體輸入裝置,通過等離子體處理表面微塵。
應用:電子元件、光學鍍膜前處理。
  • 內容詳情

     設備

  原理:利用高頻超聲波在液體中產生的空化效應,形成微小氣泡沖擊污染物,實現無死角清潔。

  特點:適用于批量清洗小型精密元件(如鏡片、晶圓),但對表面復雜結構或有膠合層的元件需謹慎。

  流程:放入清洗槽加入專用清洗液超聲波處理漂洗干燥。


     功能特征

  模塊化設計

    1. 可更換清洗槽、適配不同夾具(如晶圓夾盤、鏡片治具)。

    2. 支持擴展功能(如清洗+烘干一體化)。

  高效干燥系統

   1. 熱風循環、氮氣吹干或真空干燥,確保無水漬殘留。

   2. 干燥效率:鏡片表面濕度≤50ppm(百萬分之一)。


  光學清洗設備三種不同技術類型對比

特征

超聲波清洗機

激光清洗機

等離子清洗機

清洗方式

液體空化作用

高能激光脈沖

等離子體化學反應

適用對象

小型精密元件(鏡片、晶圓)

脆性材料、復雜形狀表面

金屬、陶瓷、高分子材料

優勢

成本低、批量處理

無接觸、超精準

表面改性+清潔一體化

典型應用

實驗室、醫療器械清洗

半導體、航天器件

電子封裝、光學鍍膜前處理


  













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